チタン専用化学研磨:サンチタン/San-titan 低ガス放出性が達成される当社ならではの高品質化学研磨処理です

サンチタン/San-titan

技術の進歩により最先端の半導体製造装置や分析装置、加速器では要求される真空度が極高真空(XHV)の領域になってきました。それに伴い、より真空特性の優れた材料が必要となっています。そこで注目されているのがチタン。機械的・電気的・熱的に優れるとともに、材料自体からのガス放出が少ないという特性を持っています。
三愛プラント工業はメカノケミカル研磨(MCP)に比べ低廉で容易な専用化学研磨を山口大学と開発しました。

 
 
 

処理概要

適用材種 純チタン
標準研磨しろ 10 μm
処理可能サイズ 1000 × 1000 × 700 mm(即応可能サイズ)
これ以上のサイズの製品についてはお問い合わせください。
 
 
 

特長

純チタン(JIS2種)表面状態の比較

  • 素地
  • バフ研磨面
  • サンチタン処理面

単位面積当たりのガス放出速度
(純チタン:JIS2種)

メカノケミカル研磨(MCP)と
同等の真空特性を達成。

ベーキングをすることで、ガス放出速度は
〜10-12 Pa・m・s-1まで低減可能です。

オリフィスコンダクタンス:6 × 10-3 m3・s-1

サンチタン/San-titan ®後の
断面TEM像(純チタン:JIS2種)

サンチタン/San-titan®処理後、表面は均一・緻密な酸化被膜が形成されます。これにより溶存気体の放出が抑制されます。
 
 
 

処理例

純チタンパイプ内面(外径 40mm)

 
 
 

サンチタン/San-titan   適用事例

大強度陽子加速器施設(J-PARK)のベローズや次世代放射光施設試作ライン(cERL)の電子銃チャンバーに採用されました。

 
 
 
お電話でのお問合せはこちら
0438-52-3313 クリーンテック事業本部
WEBからのお問合せはこちら
お問合せはこちら